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ALD技術
1970s-第一階段
ALD的發(fā)明
Suntola提出ALD概念并逐漸完善
1980s-1990s-第二階段
ALD的孕育與積累
ALD開始應用于TFT等領域獨特的自限制沉積模式優(yōu)勢初顯
2000s~至今-第三階段
ALD大規(guī)模應用與爆發(fā)
ALD開始應用于intel處理器的high-k層并開始大規(guī)模應用
應用領域不斷拓展
能源領域：太陽能電池背面鈍化、光伏活性層、防腐鍍膜、超親水/疏水涂層、防塵涂層、鋰離子電池材料增效
微電子和微機電領域：存儲器件活性層、OLED封裝、納米結構器件、微部件的防腐蝕和抗磨損
光學應用：反射涂層和増透涂層，透鏡保護、光柵器件、曲面鍍膜
其他：膜結構和多孔結構催化活性層、高效貴金屬活性層
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