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雙腔熱型原子層沉積機(jī)TALD-D系列

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雙腔熱型原子層沉積機(jī)TALD-D系列

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產(chǎn)品描述
參數(shù)

嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司的TALD系列原子層沉積系統(tǒng)是專門為集成電路前端制造先進(jìn)工藝開發(fā)的薄膜沉積設(shè)備。系統(tǒng)采用國(guó)際先進(jìn)成熟的設(shè)計(jì)思想和制造技術(shù)，充分考慮使用化學(xué)前驅(qū)體的安全性，設(shè)計(jì)與生產(chǎn)遵循世界半導(dǎo)體行業(yè)的相關(guān)的安全標(biāo)準(zhǔn)SEMI-S2，S8標(biāo)準(zhǔn)，以優(yōu)良的品質(zhì)，極高的可靠性，超長(zhǎng)的使用壽命受到客戶的認(rèn)可，產(chǎn)品性能和售后服務(wù)得到用戶一致好評(píng)。我司可提供滿足要求的前驅(qū)體源名稱、配置相應(yīng)的前驅(qū)體源管路和裝置，并在交付時(shí)提供相應(yīng)材料的工藝菜單。

    獲取詳細(xì)的設(shè)備技術(shù)規(guī)格，請(qǐng)與我公司銷售部門聯(lián)系。

關(guān)鍵詞:
雙腔熱型原子層沉積機(jī)TALD-150D
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雙腔熱型原子層沉積機(jī)TALD-D系列
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